FAQ

Nano Sevenの測定レンジは、表面粗さなら凡そ0.1～50nmです。急峻な段差（凹凸）では0.5～150nmとなります。

Nano Sevenの測定原理は一般的な白色干渉計と同様、レーザーの反射を利用した非接触式の計測器ですが、白色干渉計が計測対象物からの反射光と参照光を使用しているに対して、Nano Sevenでは同光路内のわずかに離れた2ビームを利用するため、振動による影響が小さいためです。またステージ部と光学部が一体化しており振動を相殺する構造に設計しております。

Nano Sevenの測定について、レーザーの反射を利用するため、原則反射光を感知できるものが測定対象となります。また反射光を垂直に反射させるため、測定対象物を水平に設置する必要があります。研磨された半導体向けウエハや基板（シリコン、SiC、サファイア、石英など）などがこの範疇となります。表面粗さが粗いもの（Ra：50nm以上）は、測定限界超えてしまう部分が発生し、乱反射により反射光感度が下がるため、計測できない場合があります。

Nano Sevenは、レーザーの反射光を利用する非接触式測定のため、測定時間はステージの移動速度に依存します。直径数ミクロンのレーザースポットで走査するため、面をしらみ潰しに測るには時間を要しますが、ラインで場所を移動しながら測定する場合、数秒レベルの短時間で測定することができます。

周波数の異なる2つの振動を重ね合わせると「うなり」が生じる。光も電磁波の一つであり同様に異なる周波数の光を重ねると「うなり」が生じる。この「うなり」から情報を取り出し計測に応用したのが「光ヘテロダイン干渉計測」である。波長域の狭いレーザー光を波長の異なる2ビームに分け計測物に反射させ、その反射光を分析することにより計測物の表面状態を測ります。

一般的に研磨された半導体ウエハや基板を計測対象として想定しておりますので、大きさで200×200mm程度、厚さ数mmくらいですが、原理的は計測面が水平に設置できれば、大きさに制限はないので、計測物を載せるステージ部分の改造で大きさや厚さへの変更は可能です。